真空鍍膜不知道大家有沒(méi)有聽(tīng)說(shuō)過(guò)，小編對這塊是比較熟悉了，因為小編曾經(jīng)學(xué)過(guò)機械工程，有過(guò)這方面考察的經(jīng)驗，作為真空領(lǐng)域比較普遍的一個(gè)方法，它是以真空技術(shù)為基礎的新技術(shù)。在部分程度上改變了物質(zhì)的性能，當然，是往好的方面去改，今天呢，我就來(lái)帶大家了解一下真空鍍膜的種類(lèi)和特點(diǎn)。
真空鍍膜可以分為蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍等。蒸發(fā)鍍膜：是通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面。濺射鍍膜：是用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面。離子鍍：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面。
它們各自的特點(diǎn)又有哪些呢?蒸發(fā)鍍膜：其特點(diǎn)是在真空條件下，材料蒸發(fā)并在玻璃表面上凝結成膜，再經(jīng)高溫熱處理后，在玻璃表面形成附著(zhù)力很強的膜層。蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。濺射鍍膜：“濺射”是指荷能粒子轟擊固體表面(靶)，使固體原子或分子從表面射出的現象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱(chēng)為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因為離子在電場(chǎng)下易于加速獲得所需要動(dòng)能，因此大都采用離子作為轟擊粒子。離子鍍：將蒸發(fā)法與濺射法相結合，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是得到的膜與基板間有比較強的附著(zhù)力，有較高的沉積速率，膜的密度高。
以上就是真空鍍膜的種類(lèi)和特點(diǎn)，希望能夠幫助到大家。我們金百辰智能科技(浙江)有限公司是一家正規高技術(shù)水平的工藝研發(fā)公司，如果您有設備加工制造等方面的需求，歡迎來(lái)電咨詢(xún)!
