隨著(zhù)現代機械領(lǐng)域加工技術(shù)的發(fā)展，對加工水平的要求也在逐漸提高，比如真空鍍膜的辦法，雖然是一個(gè)領(lǐng)域，卻可以分成不同的分支，這也說(shuō)明我們的加工技術(shù)的多元化的。但是大家可能對真空鍍膜的其他方法不是很了解，今天我就來(lái)帶大家一起來(lái)看看真空鍍膜常用的方法。
首先來(lái)看看真空蒸發(fā)鍍膜，它是將膜材置于真空鍍膜室內，通過(guò)蒸發(fā)源使其加熱蒸發(fā)。當蒸發(fā)分子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片間的線(xiàn)尺寸后，蒸發(fā)的粒子從蒸發(fā)源表面上逸出，在飛向基片表面過(guò)程中很少受到其他粒子(主要是殘余氣體分子)的碰撞阻礙，可直接到達基片表面上凝結而生成薄膜。
然后是真空濺射鍍膜，所謂濺射就是用荷能粒子(通常是惰性氣體的正離子)去轟擊固體(簡(jiǎn)稱(chēng)為靶材)表面，從而引起靶材表面上的原子(或分子)從其中逸出的一種現象。濺射的機理是動(dòng)量從碰撞的粒子(正離子)傳遞給晶體點(diǎn)陣粒子的過(guò)程。
再看真空離子鍍膜，真空離子鍍膜是指在真空氣氛中利用蒸發(fā)源或濺射靶使膜材蒸發(fā)或濺射，蒸發(fā)或濺射出來(lái)的一部分粒子在氣體放電空間中電離成金屬離子，這些粒子在電場(chǎng)作用下沉積到基體上生成薄膜的一種過(guò)程。
化學(xué)氣相沉積大家可能比較陌生，化學(xué)氣相沉積技術(shù)，簡(jiǎn)稱(chēng) CVD 技術(shù)。它是利用加熱 、等離子體增強
、光輔助等手段在常壓或低壓條件下使氣態(tài)物質(zhì)通過(guò)化學(xué)反應在基體表面上制成固態(tài)薄膜的一種成膜技術(shù)。
以上就是真空鍍膜方法分享給大家，不知道大家有沒(méi)有明白呢?
